Главная > Каталог > Комплектующие и расходные материалы > Источники > Серия Cypress-355 > Наносекундный твердотельный УФ-лазер Huaray Cypress-355-25
Наносекундный твердотельный УФ-лазер Huaray Cypress-355-25
Наносекундный твердотельный УФ-лазер.
- Мощность: >25 Вт.
- Длина волны: 355 нм.
- Длительность импульса: <20 нс.
Описание
Huaray Cypress-355-25 — мощный УФ-источник для высокоточной резки и микрообработки печатных плат, полупроводниковых пластин и хрупких материалов. При выходной мощности >25 Вт лазер сохраняет качество пучка M²≤1,2 и формирует импульсы длительностью менее 20 нс. Модель подходит для производительных операций, в которых требуется сочетать высокую скорость удаления материала с точностью обработки. Частота повторения импульсов регулируется от 50 до 200 кГц.
Особенности
- Встроенный УФ-расширитель пучка для повышения точности позиционирования излучения.
- Технология электрического смещения рабочей точки кристалла LBO.
- Моноблочное исполнение All-in-One с интегрированными функциональными узлами.
- Двухслойная герметизация корпуса по стандарту IP65.
Технические характеристики
| Длина волны | 355 нм |
| Выходная мощность | >25 Вт при 60 кГц |
| Частота повторения импульсов | 50–200 кГц |
| Длительность импульса | <20 нс при 60 кГц |
| Качество пучка M² | ≤1,2 |
| Расходимость пучка | ≤1 мрад |
| Круглость пучка | ≥90% |
| Диаметр пучка | 3,8±0,5 мм, 1/e² |
| Стабильность направления пучка | <25 мкрад/°C |
| Поляризация | Горизонтальная |
| Коэффициент поляризации | >100:1 |
| Стабильность импульсов | ≤3% RMS |
| Стабильность мощности | ≤3% RMS |
| Рабочая температура | 15–35 °C |
| Напряжение питания | 220/110 В AC |
| Потребляемая мощность | 450 Вт |
Область применения
- Резка и депанелизация PCB/FPCB;
- Скрайбирование и формирование отверстий в керамике;
- Резка твердых и хрупких материалов;
- Резка IGBT-пластин;
- Маркировка стекла.
Подходит для обработки печатных плат, полупроводниковых пластин, керамики, стекла и других хрупких технических материалов.
